日本の半導体製造も地に足がついて来た感がある。

２年前にラピダスが、2027年には２ナノ半導体の量産を目指すなどと発表した時は、
何を血迷ったのかと疑いましたよ。(笑い)
日本の半導体の実力はライン＆スペース30ナノ辺りがせいぜいです。
それがいきなり２ナノなど出来るわけがない。試作レベルでは出来ますけどね。
しかし量産と試作レベルとでは雲泥の差がありますからねー。
２ナノレベルを量産に持って行くのは大変至難な技です。
最初の1年間など相当うまく行っても歩留まり50%程度が最高だろう。
数年後に技術者が不眠不休で頑張って70%まで持っていけば正に御の字です。
ラピダスにも次々と応援者が集まりました。米IMB、オランダの最先端露光装置メーカーASML、ベルギーの半導体研究機関iMec、日本の最先端半導体技術センターLSTC、経済産業省、下記にも記載する
トッパン(フォトマスク)などなど
これだけ集まると地に足が付いて来た感じがして来ましたねー。
他にも大赤字でも３次元NAND型フラッシュへ7300億の投資を決めたキオクシアや
２ナノ半導体の回路を製造するためのフォトマスクの製造を始めるトッパン。
現在3ナノ半導体が最先端ですが、3ナノフォトマスクを製造出来るのもTSMCとサムスン電子しか
いませんから、2ナノフォトマスクを日本で製造するのは極めて重要な事です。
TSMCの第１工場は現在建設中、第2工場の建設も決まりました。
半導体は数多くの技術を結集しないと量産など到底出来ません。
日本が40年振りに半導体の製造復権するには、日本企業海外企業が様々な形で協力してくれないと
復権など出来ません。
でもこうして見て来ると、日本の半導体製造に対する本気度が伝わって来ますね。
良き事かな。